光谱稳，测量准——极测高精密环控系统守住OCD光学关键尺寸量测精度
发布时间：
2026-09-15
极测UPECS系统通过高精密环控保障光学量测设备的稳定环境，提升OCD测量精度。
光学关键尺寸量测（OCD，Optical Critical Dimension）常常会遇到一种困扰：同一片晶圆、同一测量点，上午与下午测得的光谱并不完全一致；光学模型明明经过校准，一段时间后却又开始 "失配"。排查设备、复校模型，往往一无所获 —— 问题可能并不在于 OCD 设备本身，而在于其所处的环境。
对光学关键尺寸量测而言，环境本身就是测量系统的一部分。OCD 通过偏振光照射周期性图形结构，解析散射光谱并反演线宽（CD）、侧壁角（SWA）等图形形貌参数，其测量链路对温度、湿度、振动与颗粒污染均高度敏感：温度漂移改变空气折射率并引起光学元件几何形变，进而造成光程与成像状态偏移；振动导致光斑位置漂移，使测量区域偏离目标图形；湿度波动可能引起光学表面结露与水膜吸附，劣化信号对比度；颗粒物则通过散射直接污染光信号。任一项失控，光谱都会 "失真"，基于光谱反演的量测结果随之偏离真值。
针对设备级环境痛点，极测（南京）技术有限公司给出的产品答案，是高精密环控系统 UPECS。UPECS 面向设备微环境设计，为 OCD 等光学量测设备构建局部受控空间：温度稳定性 ±0.002℃，湿度稳定性 ±0.1% RH，洁净度达 ISO Class 1。三项指标由同一系统协同控制 —— 温度抑制光学系统热漂移，湿度防止结露与水膜，ISO Class 1 洁净环境将颗粒挡在光路之外，共同保障光学关键尺寸量测设备的光谱基线长期稳定。设备级微环境将控制目标锁定于设备周围的小尺度空间，控制精度落点更准，投入也更聚焦。
产品背后，是极测（南京）技术有限公司在精密环境控制领域二十余年的技术积累。团队熟悉精密量测设备对微环境的真实诉求，方案围绕设备与工艺特性定制：针对光学量测特点，设计阶段重点关注光路附近的温度梯度、气流扰动与颗粒风险。服务上，极测提供从需求评估、方案设计到现场实施、调试验收与长期运维支持的全流程服务；核心研发与产品落地已完成，工程化与批量交付能力完善，能够匹配客户的产线节奏推进。
对产线上的 OCD 用户而言，稳定的微环境意味着三件事：测量光谱长期可复现，光学模型校准有效期显著延长，量测结果可直接指导光刻、刻蚀等工艺环节的反馈调整而无需反复存疑 —— 这正是高精密环控系统 UPECS 的价值所在。极测（南京）技术有限公司的产品与服务围绕光学关键尺寸量测等精密环节展开，让 "量得准" 不再受环境牵制。
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