解决方案-极测（南京）技术有限公司-精密温控±0.002℃，高精密环控专家

为高端装备
配套高精密环境系列解决方案

应用行业：芯片半导体、精密光学、精密测量、新能源、航空航天、通信技术
应用装备：半导体前道设备（光刻机、刻蚀设备等）、半导体后道设备（键合设备等）、半导体量检测设备、光学检测设备（激光干涉仪等）、原子钟等

高端装备的输出精度，依赖于环境温湿度稳定性、洁净度、气压稳定性、振动、噪音等综合条件，比如温湿度的波动会导致光刻机投影物镜热胀冷缩或形变，以及影响光路稳定性，引发纳米级定位偏差与工艺参数漂移；而洁净度不足则会使尘埃进入设备光路、反应腔或晶圆表面，造成光学部件污染、图案缺陷、短路等故障。因而为光刻机、干涉仪、键合设备、半导体量检测设备等高端装备打造多参数综合协同的环境系统异常关键。

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在半导体制造工艺中，大量工艺与设备都会产生热量，例如干法刻蚀设备运行时因高频电场产生高温，光刻机曝光时也会产生大量热量。为避免局部过热或过冷导致的工艺及设备性能的偏差，冷却水机通过出水温度恒定的循环冷却水实现快速散热，精准控温，带走设备运行和工艺反应产生的热量。

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在工业生产中，以半导体行业为例，晶圆清洗、光刻胶剥离、气动元件驱动，都会用到压缩空气，需严格恒温以避免压缩空气因温度波动析出水分或油分，污染晶圆表面。氮气作为惰性保护气体，用于薄膜沉积（CVD/PVD）、离子注入、晶圆切割等环节，温度恒定是保证膜层厚度均匀性、掺杂浓度一致性的关键。因而对压缩空气/氮气温度的精准稳定控制变得非常关键。

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