极测:实现Class 1洁净环境,±0.002℃温度稳定性,为精密设备提供配套环境控制
发布时间:
2026-04-23
极测高精密环控系统UPECS实现从“房间级”到“设备级”精准控制。
一、被忽视的精度问题
在航空航天零部件的检测实验室里,一台精密测试设备正在运行。Class 1洁净环境,温度22℃,湿度55%RH——这些参数看似已经满足了行业标准。然而,当温度波动超过±0.1℃,精密零件的热膨胀系数差异会导致测量基准漂移;当湿度偏差超过±2%RH,静电积累可能击穿敏感元器件的表面涂层。
这不是个案——在半导体光刻、精密光学测量、航空发动机叶片检测等领域,"大环境达标,微环境失控"的隐性成本正悄然影响着高端制造的精度稳定性。
二、从"房间级"到"设备级":环控理念的转变
传统洁净室环境控制如同中央空调,追求整个空间的平均值达标。但精密设备的核心工作区域往往只有几立方米,却承载着纳米级的工艺精度要求。极测(南京)技术有限公司推出的高精密环控系统UPECS,正是为解决这一矛盾而生。

"UPECS不是传统洁净室空调的缩小版,而是专为精密设备设计的配套环控系统。"极测技术负责人介绍道。该系统将远超洁净间级别的环境控制精度,将温湿度等关键参数控制集成于设备框架之中,实现了从"房间级"到"设备级"的精准下沉。
核心性能指标:
温度稳定性:最高可达±0.002℃(±2mK)
湿度稳定性:最高可达±0.1%RH,避免光学路径折射率波动与静电风险
洁净度等级:最高实现ISO Class 1,远超常规洁净间所需洁净度
噪音控制:≤45dB,满足精密测量场景的低干扰需求
三、场景化定制:环控系统成为设备的有机组成部分
不同于标准化环境设备,极测UPECS采用模块化架构,针对半导体、航空航天、精密光学等不同场景提供非标定制能力:
半导体量测设备配套
OCD光学关键尺寸量测等设备对微振动与热漂移双重敏感。极测UPECS通过整体环境精密调控,以及针对电子控制单元、运动部件等发热点进行局部气浴(ABM)点对点温控,同时集成抗微振设计,确保纳米级测量重复性。
在某型半导体检测设备项目中,UPECS通过闭环气流循环与高精度PID算法,将工作区温度波动控制在mK级别,配合CFD气流仿真优化消除涡流死区,显著提升了测量数据的重复性与可靠性。
航空航天精密检测
针对航空发动机叶片、航天阀门等关键零部件的精密测量需求,UPECS对温湿度、洁净度进行协同控制,有效解决了因环境温度波动导致的批次间一致性难题。
光刻机设备框架配套
光刻光学系统对温度波动极度敏感,0.1℃偏差即可导致图案畸变。UPECS的毫K级温控能力配合CFD优化气流组织,保障多图案曝光(MPC)的叠加精度 。系统搭载的洁净过滤系统可实现ISO Class 1洁净度,配合湿度稳定性±0.1%RH的控制,有效避免了尘埃附着导致的光刻胶表面缺陷和镜片结雾问题。
四、技术实力:毫K级技术创新,让每一台设备都拥有专属"微环境"
极测(南京)技术有限公司依托母公司采用研发生产一体化模式,100%关键工序自控,可灵活实现不同温湿度稳定性、洁净度、气压稳定性、抗微振、防磁、降噪等多维度定制需求。
公司已服务多家全球芯片半导体、通信设备、光学光电领军企业与国家重点实验室,产品包括高精密环控系统UPECS、高精密冷却水机Chiller、高精密气体温控机ACU等系列。
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